目前，等離子清洗的應(yīng)用越來(lái)越廣泛，它在許多高科技領(lǐng)域?qū)I(yè)經(jīng)濟(jì)和人類文明產(chǎn)生了巨大的影響。它*推動(dòng)了電子信息產(chǎn)業(yè)，特別是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)和光電產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。等離子清洗機(jī)在各種電子元件的制造中，以及在光學(xué)工業(yè)、高分子工業(yè)和測(cè)量工業(yè)中都有應(yīng)用。為了充分發(fā)揮它的表面處理技能，我們?cè)谑褂眠^(guò)程中要注意這些，不要讓這些因素限制了它的使用。
 

　　1.不能用它來(lái)清除物體表面的切削粉末，這一點(diǎn)在清洗金屬表面的油污時(shí)尤為明顯。

　　2.不能用來(lái)清除很厚的油污。雖然用等離子清洗機(jī)清洗附著在物體表面的少數(shù)油污有很好的效果，但是對(duì)于很厚的油污卻不好去除。一方面，它可以用來(lái)去除油膜，延長(zhǎng)處理時(shí)間，大大提高清洗成本。另一方面，在與厚油污接觸的過(guò)程中，可能會(huì)造成分子污垢結(jié)構(gòu)中的不飽和鍵聚合、偶合，形成穩(wěn)定的樹(shù)脂化立體網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)。這種樹(shù)脂膜一旦形成，就很難消除。

　　3.在應(yīng)用過(guò)程中發(fā)現(xiàn)，用等離子體清洗不能很好地去除表面的指紋，而指紋往往是玻璃光學(xué)元件上的污染物。等離子清洗雖然不能*去除指紋，但是需要延長(zhǎng)處理時(shí)間。這個(gè)時(shí)候，我們要考慮到它會(huì)對(duì)基板的功能產(chǎn)生不好的影響。因此，還需要其他的清洗方法進(jìn)行預(yù)處理。功能使清洗過(guò)程無(wú)序化。

　　4.由于等離子清洗機(jī)的清洗過(guò)程需要進(jìn)行真空處理，而且一般都是在線生產(chǎn)或批量生產(chǎn)，所以在將等離子清洗設(shè)備引入生產(chǎn)線時(shí)，需要考慮清洗后的工件的存儲(chǔ)和轉(zhuǎn)移，特別是當(dāng)加工的工件體積大、數(shù)量多時(shí)。